版权法保护作者对思想观念的表述,专利法保护发明者的技术发明,二者的分界线似乎很清楚。但是,对于某些既具有作品特征又具有技术发明特征的智力成果来说,就很难确定究竟是用版权法来保护,还是用专利法来保护了。这是因为,将某些智力成果纳入版权法保护的范围,而将另一些智力成果纳入专利法保护的范围,完全是一种法律上的划分。

  而实际的智力成果创造者,尤其是那些在版权保护范围与专利权保护范围交界处从事创作或发明的智力劳动者,他们在从事有关的智力创造活动时,可能并不清楚自己的智力成果将来应受哪一种权利的保护。在这一点上,人类的智力创造活动是一个客观存在的整体,不以版权法或专利法的保护范围为转移。难以在版权保护和专利权保护之间划出一条界线来,只是法律或法学家们的尴尬。

  处于版权法与专利法之间的主要有外观设计、计算机软件和集成电路布图设计。

  外观设计既具有专利法所保护的技术发明的特征,又具有版权法所保护的表述的特征。一方面,一些优美的工业品外观设计,如电视机的外形、汽车的外形,既是工业上实用的技术方案,又是某种美学观念的表述。另一方面,一些实用艺术品,如艺术器皿、艺术装饰品,主要是美学思想观念的表述,但同时又可以运用到产业中,批量生产后投放市场。工业品外观设计中既有技术方案的要素,又有美学观念表述的要素;实用艺术品中既有美学观念表述的要素,又有可以在产业上批量生产的特征。

  这些都表明,无论是工业品的外观设计,还是实用品的艺术表述(或外观设计),都是既具有技术方案的特征,又具有美学观念表述的特征。事实上,在工业品的外观设计与实用品的艺术表述(或外观设计)之间,从来就不存在一条清晰的分界线。

  在外观设计的保护上,有的国家采纳了专利法的方案,有的国家采纳了版权法的方案。然而,由于外观设计既具有技术方案的特征,又具有表述的特征,不论是武断地将之纳入专利法还是版权法,都会丢失一些受保护的因素。发现难以在专利法所保护的工业品的外观设计与版权法所保护的实用品的艺术表述之间,划出一条清楚 的分界线来。正是基于以上的种种原因,一些国家则直接制定了专门的外观设计保护法,既吸收了版权法的一些塬则和规定,又吸收了专利法的一些原则和规定。

  在外观设计的保护方面,法国、德国和英国的法律具有典型的说明意义。这叁个国家都制定有专门的外观设计保护法,都要求以注册和提交样品作为保护的前提。但即使是这样,在外观设计的保护上,仍然避免不了与版权法的重叠。按照法国的做法,所有的实用艺术品或外观设计,既可以受到版权法的保护,又可以受到外观设计法的保护。当然,版权法侧重于保护实用艺术品或外观设计中的艺术或美学的表述,外观设计法侧重于保护其实用的或产业性使用的方面。

  按照德国的做法,绝大多数实用艺术品或外观设计都由外观设计法予以保护,只有极少数符合版权法要求的艺术表述,才能获得版权的保护。这是强调版权法只保护艺术或美学表述的结果。英国则是以版权法保护艺术性的外观设计,以外观设计法保护实用的或产业性使用的外观设计。然而,即使是符合版权法要求的外观设计或艺术表述,只要投入产业性使用,生产了50件以上,就只能获得外观设计法规定的25年的保护,而非版权法规定的作者有生之年加70年的保护。

  此外,如果外观设计具有了市场上的可识别性,能够指示商品或服务的来源,又可以作为商标得到商标法的保护,作为商品外观得到反不正当竞争法的保护。

  计算机软件也处于版权法和专利法保护的范围之间。一方面,计算机软件可以作为文字作品得到版权法的保护。世界贸易组织“与贸易有关的知识产权协议”和大多数国家的版权法都做了这样的规定。另一方面,计算机软件又具有解决实际问题的技术方案的特征。无论是我们日常使用的“视窗”操作系统,还是专门的财会、 金融、通讯软件,都是解决具体问题的技术方案。这样,计算机软件既具有版权法所保护的“作品”的特征,又具有专利法所保护的“技术方案”的特征。

  现在,国际上流行的是将计算机软件作为文字作品,由版权法加以保护。但在近些年里,软件却越来越多地作为发明,由专利法予以保护。当然,计算机软件在作为专利法保护对象时,必须与硬件结合。单纯的没有与硬件结合的软件,仍然不能得到专利法的保护。不过,这种结合并不困难。因为,从理论上讲,任何软件都只有在与硬件结合之后才能发挥作用,不与硬件结合的软件几乎是不存在的。而且,美国在这方面的推理也很有意思,即当软件与硬件结合后,会产生一种新的受专利法保护的“机器”。

  处于版权法与专利法之间的还有集成电路布图设计。集成电路布图设计又称“光罩作品”(mask work),是指由一系列相关图形构成的,体现在一定的模具或半导体芯片上的叁维布图设计。这种叁维布图可以体现在一定的模具上,并通过这 种模具来批量生产半导体芯片。这种叁维布图也可以体现在半导体芯片上,其目 的是让体现有该布图设计的半导体芯片产生某种电子功能。一方面,集成电路布图设计类似于受版权法保护的图形作品,并且可以通过模具而批量复制。另一 方面,集成电路布图设计又具有受专利法保护的技术特征,体现了布图设计的半导体芯片可以产生某种相互作用的电子功能。显然,无论是以单纯的版权法或单纯的专利法来保护集成电路布图设计,都是不恰当的。

  正是基于此种情况,美国于1984年通过了一部专门的“半导体芯片产品保护法”。1989年5月,在世界知识产 权组织主持的华盛顿外交会议上,又缔结了一个《集成电路知识产权条约》。无论是美国的“半导体芯片产品保护法”,还是世界知识产权组织的《集成电路知识产权条约》,都是既吸收了版权法的原则和规定,又吸收了专利法的原则和规定。而且,非常有意思的是,美国的“半导体芯片产品保护法”后来被纳入了美国版权法,成为 其中的第九章。而许多美国版权法的单行本,包括美国版权局所印发的版权法单行本,又剔除了第九章“半导体芯片产品保护法”,认为第九章的规定不属于版权法的组成部分。


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